광열 이미징 기법에서의 다양한측정 조건에 따른 재구성 정확도에 대한 수치적 연구 - 이진섭 (The Graduate School, Ajou University, 2017)
광열 이미징 기법(photothermal imaging method)은 광열효과를 이용하여 재료 내부의 결함(defect)이나 패턴(pattern)을 찾아내는 비파괴 단층촬영 기법 중 하나이다. 광열 이미징 기법에서는 검출된 신호를 재구성(reconstruction)하는 과정이 필수적이며, 재구성된 결과의 분해능(resolution)은 이미징 기법의 성능에 있어 중요한 요소이다. 이에 대해 이전 연구자들은 측정조건(parameter)에 따른 분해능의 변화를 정성적으로 결론지었음을 확인하였다. 본 연구에서는 COMSOL을 통한 수치해석과 실제 시편에 대한 실험을 병행하여 해석에 대한 타당성을 검증한 후, 수치해석과 실험결과를 종합하여 분해능에 대한 정량적 결론을 내리고자 한다. 따라서 본 연구에서는 4 가지 폭의 내부 슬릿(slit)을 가지는 구리 시편을 대상으로 가열빔의 주파수 4 가지, 가열빔의 빔 반경 4 가지에 따라 해석 및 실험을 진행하고, 그에 대한 결과를 FWHM(fulll width half maximum)기법으로 내부 슬릿의 폭을 재구성하여 측정 조건에 따른 분해능 변화를 조사하였다.
학위논문(석사)--아주대학교 일반대학원 :기계공학과,2017. 8
Keywords: Photothermal; 광열효과; 광열편향법; mirage deflection method