반도체 산업에서 회로의 고밀도화, 고집적화가 급속도로 진전 되고 있으며 이로 인해 웨이퍼 표면에 부착되는 오염물의 크기가 미세해 지고 청정도 수준은 엄격해 지고 있으며, 세정에 대한 요구도 더욱 엄격해 지고 있다.
본 연구는 웨이퍼의 세정 후속 공정으로 진행되는 건조과정에서 사용 되어 지는 여러 건조장비 중에서 IPA(isopropyl alcohol) 증기 건조기의 내부 유동 및 건조 특성을 파악하는 것이 주된 목적이다.
본 연구를 수행함에 있어 상용 CFD 툴인 FLUENT를 이용 하였고, IPA 운반 가스인 의 유량과 분사각도 및 출구 각도에 따른 건조기 내부와 웨이퍼 주위의 유동을 관찰함과 동시에 웨이퍼 표면의 평균 유속 및 위치별 속도 편차를 분석 하였다.
