최근 신소재를 이용한 부품이 다양한 분야에서 활용됨에 따라 에너지 빔을 활용한 가공기술 및 분석기술에 대한 수요가 증가하고 있다. 이러한 에너지 빔 가공기술은 마모가 일어나지 않기에 안정적이고 정밀한 가공이 가능하다. 그 중 집속이온빔은 다양한 가공방법이 개발되었으나, 이온 소스재료의 주입 및 표면 근처의 손상된 층이 형성되는 불가피한 결과를 나타낸다. 이는 실제적으로 장치의 성능을 저하시키거나 변경시킬 수 있다.
본 연구는 집속이온빔으로 인하여 발생되는 표면 손상을 확인하고 이를 방지하기 위한 목적으로 전자빔 증착을 활용한 보호층의 최적화 조건을 확인하였다. 가속전압, 전류, 시간에 따른 조건을 변경하며 가장 최적의 조건을 구할 수 있었다.
그 결과로 전자빔 증착을 통한 보호층 형성시 일정한 규칙에 따라 형성되며 이를 통해 원하는 보호층을 제작할 수 있음이 확인되었다.
