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Showing results 1 to 1 of 1
Auto-masked surface texturing of kerf-loss free silicon wafers using hexafluoroisopropanol in a capacitively coupled plasma etching system
Kim, Suhyun;
Park, Jin Su;
Kim, Jun Hyun;
Kim, Chang Koo
;
Kim, Jihyun
2019-01-01
ECS Journal of Solid State Science and Technology, Vol.8 No.4, pp.Q76-Q79
Electrochemical Society Inc.
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